台灣光罩成立於1988年以光罩製程技術為本，一路走來迄今，依據市場客戶需求，拓展65nm及40nm關鍵生產機台產能，持續深化製造技術服務能力，為IC及非IC微結構製程客戶， ...
本公司係結合國內各大晶圓及光罩廠傑出之專家，共同創設具有相位移光罩（Phase Shift Mask，PSM）技術之世界一流光罩公司，並將對各晶圓廠提供微影製程（photolithography），電腦 ...
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