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發明專利說明書
【發明內容】. 因此本發明之主要目的在於提供一種利用一光罩對準. (reticle alignment)機台對準一半導體晶片的方法,以避. 免各層別微影(lithography)製程之對準程序因前層 ...
利用光學讀取頭產生之灰階底片光罩 - 博碩士論文網
論文摘要灰階光罩有許多不同的光罩製作方式，因為微影製程簡單，近年來備受矚目，有半階光罩、HEBS玻璃灰階光罩、雷射直寫(Laser Direct Write)玻璃灰階光罩。 ; 2006 · 英文.
