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台灣光罩成立於1988年以光罩製程技術為本，一路走來迄今，依據市場客戶需求，拓展65nm及40nm關鍵生產機台產能，持續深化製造技術服務能力，為IC及非IC微結構製程客戶， ...

光罩(2338)_公司簡介_個股總覽_台股_鉅亨網

公司基本資料. 公司名稱, 台灣光罩股份有限公司, 公司簡稱, 光罩. 公司英文名稱, TAIWAN MASK CORP. 英文簡稱, TMC. 董事長, 陳正翔, 總經理, 陳立惇.

光罩對準曝光機(Mask Aligner) - 陽明交通大學奈米中心

光罩對準曝光機(Mask Aligner). 儀器中文：光罩對準曝光機. 儀器英文：Mask Aligner. 儀器所屬教授：徐文祥教授. 實驗室連絡電話： 55149. 儀器資訊: 1.廠牌型號: 日本共和 ...

黃光微影(Photolithography) - Ansforce

將光罩上的圖形縮小之後轉移到矽晶圓上稱為「圖形轉移(Pattern transfer)」，所使用的方法稱為「黃光微影(Photolithography)」，其步驟與光罩的製作很類似， ...

台灣美日先進光罩

The leader In Photomask Technology. 台灣美日先進光罩作為全球最大的商用光罩生產公司，除了不斷完善產品線與優化服務，持續投入 ...

TSMC 常用英文單字參考

) 光. 148. mask (n.) 光罩、口罩. 130. line (n.) 直線. 149. material (n.) 原料. 131. link (n.) 連結. 150. measure (v.) 量測. 132. liquid (n.) 液體. 151.

Pellicle的功能 - Micro Lithography, Inc.

概論使用Pellicle最主要有兩種目的，一是增加晶片生產良率，另一是減少光罩於使用時之清潔和檢驗。Pellicle是一個薄膜展開在框架上，以保護光罩避免微塵的污染。

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