光罩製程 搜尋引擎推薦回答
光罩( Photomasking )製程簡介
光罩的原理區分為兩個領域：. 1.光罩的圖像可供轉印至晶片. 表面。 2.經由光阻劑的感光作用，將. 光罩的圖像轉印至晶片表面。 Page 3. 3. 光罩( Photomasking ) ...
光罩- 維基百科，自由的百科全書
光罩（英語：Photomask、Mask、Reticle）係生產積體電路所需之模具，在半導體製程中，利用微影技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理。
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