光罩製程 - 愛玩股

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光罩製程 - Scribd

... • 暫時在晶圓上塗佈光阻劑• 將設計圖案轉移至光阻劑• 為IC製程中最重要之步驟• 占晶圓總製程時間的40 ~50% 光阻劑• 光敏感物質• 暫時塗佈在晶圓上表面• 經由曝光 ...

先進光罩製作技術的挑戰

以下分別就光罩製作上的. 關鍵步驟，依Data、Writing & Process、. Inspection、Repair及Pellicle說明。一、Data. OPC(Optical Proximity Correction)的. 目的可以圖三的(a) ...

專欄／先進製程引領晶圓代工熱潮，帶動晶圓盒與光罩盒需求成長

由於光罩會直接影響到晶片生產的良率，因此需要有極高潔淨度，而且在不同生產階段會搭配不同種類的光罩盒。

微影製程再進化！複雜電路的祕密 - 科技大觀園

微影製程是將電路圖案，透過已刻好圖案的光罩及光阻，「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說，在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上（見下圖），我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...

光罩工業及其製程技術之探討 - CTIMES

在光罩的製作技術部分，大致可以分成傳統光罩、相位移光罩技術（ Phase Shift Mask；簡稱PSM）、光學近接修正光罩技術（Optical Proximity Correction；簡稱OPC）等三種。 ... 傳統 ...

光罩是一片熔融矽石（石英）板，通常為6平方英寸（約152平方毫米），其上覆蓋著在微影製程中由不透明、透明和相偏移區域所組成的圖案，被投影到晶圓上，以定義單層積體電路的佈局 ...

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