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光罩:簡介,結構,光刻,積體電路 - 中文百科全書

光罩（英文：Reticle, Mask），在製作IC的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理，類似於沖洗照片時，利用底片 ...

發明專利說明書

【發明內容】. 因此本發明之主要目的在於提供一種利用一光罩對準. (reticle alignment)機台對準一半導體晶片的方法,以避. 免各層別微影(lithography)製程之對準程序因前層 ...

其它人也問了

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